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刘鹤

作品数:6 被引量:8H指数:2
供职机构:长春工业大学化学工程学院更多>>
相关领域:化学工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文
  • 1篇专利

领域

  • 5篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 5篇化学镀
  • 2篇低磷
  • 2篇镀层
  • 2篇结合力
  • 2篇碱性
  • 2篇P
  • 1篇镀层结合力
  • 1篇镀镍
  • 1篇镀锡
  • 1篇镀锡层
  • 1篇镀液
  • 1篇引线
  • 1篇引线框
  • 1篇引线框架
  • 1篇体硅
  • 1篇无铅
  • 1篇化学沉积法
  • 1篇化学镀镍
  • 1篇化学镀液
  • 1篇碱性镀液

机构

  • 6篇长春工业大学
  • 1篇上海新阳半导...

作者

  • 6篇刘鹤
  • 5篇贺岩峰
  • 4篇王鹤坤
  • 2篇马立国
  • 1篇葛彦侠

传媒

  • 1篇材料保护
  • 1篇电镀与环保
  • 1篇电镀与涂饰
  • 1篇第十一届全国...

年份

  • 1篇2012
  • 5篇2011
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
化学镀Ni-Sn-P中锡的析出行为被引量:1
2011年
化学镀Ni-Sn-P层锡的含量对其性能有较大的影响,过去对锡的析出研究不多。为此,利用电子能谱(EDS)等方法分析了化学镀液中锡含量对镀速和镀层中锡、磷含量的影响,用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)对施镀不同时间的镀层形貌、组成进行了分析。结果表明:沉积速度随镀液中锡含量的增加而减小,镀层中的锡含量随着镀液中锡含量的增加而增加,镀层中的磷含量随着镀液中锡含量的增加而减小;化学镀Ni-Sn-P沉积过程中,开始是镍磷沉积,然后出现锡的沉积,当沉积一定时间后,镀层中Ni,Sn和P的含量基本保持不变。
王鹤坤刘鹤贺岩峰
关键词:化学镀
低温低磷化学镀镍被引量:2
2011年
研究了温度、pH、次磷酸钠、柠檬酸和辅助配位剂对化学镀镍沉积速率和镀层磷含量的影响,确定了一种低温(40°C)、低磷(w=4.15%)的碱性化学镀液配方:硫酸镍25g/L,次磷酸钠8.0g/L,柠檬酸30g/L,辅助配位剂(一种含铵的化合物)15g/L,pH9.0。
刘鹤马立国王鹤坤贺岩峰
关键词:化学镀镍碱性低磷沉积速率
基体表面性质对引线框架上无铅镀锡层的影响被引量:5
2011年
研究了铜基引线框架基体表面性质对镀锡层的影响。扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)分析结果表明:镀层外观由其结晶结构决定。采用X射线光电子能谱(XPS)研究了铜基引线框架表面性质的影响。结果表明:引线框架表面铜的氧化状态对于最终所得镀锡层的性质有很大影响,当引线框架表面存在大量的CuO时,得到的镀锡层易于出现发黑等质量缺陷。研究了相应的解决方法,对于因基体表面性质引起的镀层发黑等质量问题,可以通过加强镀前去氧化解决,也可以通过增强添加剂的极化作用予以改善。
贺岩峰王鹤坤刘鹤孙红旗
关键词:镀锡引线框架
一种碱性化学镀液及其在硅片上的镀液方法
一种碱性化学镀液及其在硅片上的镀液方法,属于化工领域,涉及硅片上化学镀镍的方法。本发明的目的是提供一种无需前处理的硅片上直接利用化学沉积法进行镀液的碱性化学镀液及其在硅片上的镀液方法。本发明组成镀液配方:主盐、缓冲剂、络...
马立国葛彦侠刘鹤贺岩峰
文献传递
化学镀Ni-Sn-P中锡的析出行为
化学镀Ni-Sn-P层锡的含量对其性能有较大的影响,过去对锡的析出研究不多。为此,利用电子能谱(EDS)等方法分析了化学镀液中锡含量对镀速和镀层中锡、磷含量的影响,用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)对施镀不同时间的...
王鹤坤刘鹤贺岩峰
关键词:化学镀
文献传递
半导体硅表面化学沉积Ni-P金属化层的研究
化学镀镍,其本质是在基材表面的自催化作用下,镀液中的Ni2+获得还原剂提供的电子,沉积到基材上的一种氧化还原反应。碱性化学镀镍,可以实现低温下操作,并获得低磷含量的镀层。硅,作为太阳能电池、微电子器件和集成电路的主要材料...
刘鹤
关键词:碱性化学镀低磷结合力
文献传递
共1页<1>
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