王英剑
- 作品数：53 被引量：194H指数：10
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信化学工程一般工业技术更多>>
- 非均匀性对单层膜光学特性的影响被引量：7
- 2005年
- 探讨了不同规律的非均匀性对单层膜的光谱特性的影响,与均匀单层膜对比发现折射率正变引起透射率的极大值减小,折射率负变引起透射率的极大值变大,当非均匀性很小时,透射率的极小值基本不变.对实验制备的单层膜从实验和理论上进行了对比并给出了较好的拟合,发现在薄膜和基底的界面处存在一过渡层,过渡层可近似为线性,并从理论上给予了分析解释.
- 沈自才宋永香王英剑范正修邵建达
- 关键词：非均匀性光谱特性
- 离子束辅助技术获得高激光损伤阈值的增透膜被引量：19
- 2006年
- 采用合适的离子束辅助沉积(IBAD)参数在K9基底上镀制了高激光损伤阈值的中心波长1053 nm的增透膜,分别从光谱性能、吸收性能、抗激光损伤阈值(LIDT)以及退火后的影响等方面与未进行离子束辅助沉积的薄膜进行对比分析。实验结果发现,采用离子辅助制备的薄膜放置80 d后具有更好的光谱稳定性,与未进行离子束辅助镀制的薄膜相比,平均吸收下降了57%,吸收值偏高的奇异点明显减少;损伤阈值提高了60%,用Leica偏振光学显微镜观察50%损伤几率的能量下破斑形貌,发现经过离子束辅助制备的样品破斑形状整齐且缺陷点少;未进行离子束辅助制备的样品退火后吸收降低,阈值提高,但奇异点没有减少,辅助样品变化不大。由此可知,离子辅助有助于制备高性能基频增透膜。
- 王聪娟晋云霞王英剑邵建达范正修
- 关键词：离子辅助沉积弱吸收激光损伤阈值
- 离子束清洗在激光薄膜中的应用
- 用End-Hall型离子源进行了离子束清洗在激光薄膜中的应用研究.通过实验验证了基片的二次污染和离子束的清洗效果,观测了离子束清洗前后基片的表面形貌变化,研究了离子束清洗基片对基片上薄膜抗激光损伤阈值的作用.分析了离子束...
- 张大伟邵建达王英剑范正修范瑞瑛
- 关键词：离子源损伤阈值表面形貌
- 文献传递
- 离子辅助镀膜中离子源束流密度均匀性研究
- 以Veeco公司生产的Mark Ⅱ离子源为例,分析了平面夹具上离子源束流密度的分布情况,实验结果表明当离子源垂直入射时在偏离离子源轴线的位置,束流密度显著降低,当其以一定角度倾斜入射的时候就可以有效的改善这一不均匀分布,...
- 王聪娟晋云霞王英剑范正修
- 关键词：离子源离子辅助沉积
- 文献传递
- 离子束清洗在激光薄膜中的应用被引量：9
- 2005年
- 介绍了在激光薄膜中End Hall型离子源离子束清洗的应用。通过实验验证了基片的二次污染和离子束的清洗效果,观测了离子束清洗前后基片的表面形貌变化。研究了用离子束清洗基片时对薄膜抗激光损伤阈值的作用。分析了用离子束清洗基片时其基片表面的性质,如清洁度、表面能、接触角、表面形貌的变化机理。指出了杂质微粒的去除和附着力的增加是如何使薄膜抗激光损伤阈值显著提高的。
- 张大伟张东平邵建达王英剑范正修范瑞瑛
- 关键词：激光薄膜离子源损伤阈值
- 波长1315nm的石英窗口增透膜被引量：3
- 2000年
- 用 Ta2 O5/ Si O2 膜系镀制了石英窗口增透膜。并在优化膜系 ,改进膜厚控制后 ,使得 1 31 5nm波长单面剩余反射率降到 0 .0 5%。
- 宋永香王英剑王靖张蕾李庆国李如凤
- 关键词：增透膜
- 关于制备1315nm 45°入射高反射镜的实验研究被引量：3
- 2000年
- 从优化膜系、控制膜厚、改善膜面、均衡应力等四个方面开展了实验研究工作 ,为制备 1 31 5nm 4 5°高反射镜提供一些判断实验数据 ,并提出改进的方法 ,从而使制备的高反射膜取得满意的结果 :反射率大于 99.8%。
- 王英剑宋永香张蕾王靖李庆国
- 关键词：膜厚应力
- 用表面热透镜技术测量1315nm高反射硅镜弱吸收的研究被引量：5
- 2000年
- 运用表面热透镜技术精确测量了 1 31 5nm高反射硅镜的弱吸收 ,判断引起吸收的原因 。
- 王英剑胡海洋李庆国范正修
- 关键词：弱吸收
- 德鲁德分布非均匀膜的光学特性模拟分析
- 2005年
- 从德鲁德理论出发,对多元共蒸法镀制的非均匀膜的折射率分布与沉积速率的关系进行了探讨;然后利用计算机辅助模拟,对德鲁德分布非均匀光学薄膜,从单周期和多周期、正变和负变、完整周期和存在半周期几个方面对其光学特性进行了系统分析.研究发现:其透射率的极小值和周期数的关系遵从周期数的三次多项式衰减规律,不同规律的德鲁德分布非均匀膜可用来设计不同功能的滤光片.
- 沈自才王英剑范正修邵建达
- 关键词：光学薄膜非均匀性滤光片
- 离子溅射技术对薄膜性能的影响
- 运用离子溅射沉积技术制备光学增透膜,着重研究离子溅射技术对制备的薄膜性能的影响,包括表面形貌、折射率、薄膜弱吸收、薄膜结构等性能,分析离子溅射技术的特点及制备薄膜的局限性.
- 王英剑易奎宋永香李庆国范正修
- 关键词：离子溅射表面形貌弱吸收
- 文献传递
