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脉冲激光沉积氧化锌及其相关多层膜的研究: ZnO是一种重要的宽带隙半导体氧化物材料。其较大的禁带宽度(3.37eV)和激子束缚能(60meV)以及较好的化学稳定性，使其成为制造光电子器件的理想材料。脉冲激光沉积系统是一种相对先进的薄膜生长设备，其优点之一是可以精...; 霍炳至; 关键词：脉冲激光沉积薄膜生长光致发光谱 P型掺杂

衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的光学和电学特性的影响被引量：5: 2007年; 利用脉冲激光沉积法(PLD)在c面蓝宝石衬底上制备了ZnO薄膜并对其进行了X射线衍射(XRD)、反射式高能电子衍射(RHEED)、光致发光(PL)谱和霍尔(Hall)测试。RHEED和XRD分析表明,温度在350℃至550℃之间时,ZnO薄膜的结晶质量随着衬底温度的升高而提高,当衬底温度进一步升高后,ZnO薄膜的结晶质量开始下降。四个样品中,衬底温度为550℃的样品具有最清晰的规则点状RHEED图像和半高宽最窄的(0002)衍射峰。PL谱和Hall测量的结果表明,衬底温度为550℃的样品还具有最好的发光性质和最大的霍尔迁移率。; 赵子文胡礼中张贺秋孙景昌刘维峰骆英民霍炳至; 关键词：ZNO薄膜脉冲激光沉积衬底温度

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霍炳至