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陈文昱

作品数：94 被引量：10H指数：2
供职机构：浙江大学更多>>
发文基金：浙江省自然科学基金国际科技合作与交流专项项目国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信机械工程文化科学自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 86篇专利
  • 4篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 13篇电子电信
  • 5篇机械工程
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇文化科学
  • 1篇电气工程

主题

  • 65篇光刻
  • 46篇光刻机
  • 26篇浸没
  • 21篇光刻系统
  • 18篇密封
  • 18篇回收
  • 17篇投影物镜
  • 17篇物镜
  • 12篇浸液
  • 9篇气体密封
  • 9篇气液
  • 9篇流量计
  • 8篇三自由度
  • 8篇气体
  • 8篇流场
  • 8篇流体
  • 6篇调节装置
  • 6篇自适应
  • 6篇浸没式光刻
  • 6篇控制装置

机构

  • 94篇浙江大学

作者

  • 94篇陈文昱
  • 81篇傅新
  • 22篇徐宁
  • 17篇邵杰杰
  • 12篇付新
  • 10篇胡亮
  • 6篇毛凯
  • 6篇马颖聪
  • 6篇刘琦
  • 5篇陈晖
  • 5篇杨凯
  • 5篇阮晓东
  • 5篇张志杰
  • 5篇方泽华
  • 4篇杨华勇
  • 4篇杜凌云
  • 4篇童章进
  • 4篇黄瑶
  • 3篇李星
  • 3篇陈晖

传媒

  • 2篇机械工程学报
  • 1篇浙江大学学报...
  • 1篇传感器与微系...
  • 1篇第六届全国流...

年份

  • 2篇2023
  • 1篇2020
  • 1篇2019
  • 2篇2018
  • 6篇2017
  • 8篇2016
  • 16篇2015
  • 18篇2014
  • 19篇2013
  • 7篇2012
  • 5篇2011
  • 6篇2010
  • 2篇2009
  • 1篇2008
共 94 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种基于滚珠定位的三自由度精密调节装置
本发明公开了一种基于滚珠定位的三自由度精密调节装置。该装置安装在浸没式光刻机的主框架和浸没单元之间，其安装基板和连接板之间通过三组相同的运动支链以并联方式相连，每组运动支链由安装基板到连接板方向依次由直线运动副、滚珠固定...
傅新廖安志陈文昱邵杰杰
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一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间置有本发明装置；包括浸没单元下端盖、浸没单元基体、垂直注液孔板、焊接盖板和注气盖板，浸没单元下端盖、垂直注液孔板及注...
傅新简勇华陈文昱徐宁徐文苹
用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置。旋转滚子密封装置是在投影透镜组和衬底之间的装置，由内构件、外构件、端盖和滚子组成。在光刻扫描过程中，浸没液体伴随衬底高速运动的牵拉作用，将产生与衬底运动方向一致的液体流...
傅新刘琦陈文昱
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基于PVDF的浸没式光刻机流场压力传感器
本发明公开了一种基于PVDF的浸没式光刻机流场压力传感器。包括含屏蔽膜的PVDF压力传感元件，以及由电压放大电路、电荷放大电路和滤波电路组成的信号处理装置。含屏蔽膜的PVDF压力传感元件产生的电荷信号，通过电荷放大器输出...
陈文昱郭伟龙付新
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用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置
本发明公开了用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有由浸没单元上端盖和浸没单元下端盖组成的多级负压回收密封和气密封装置。本发明利用负压回收液体的同时，还能对液体实现密封。...
傅新陈文昱童章进徐宁
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浸没式光刻中浸液控制单元的液体供给及密封研究
本论文以浸没式光刻中的浸液控制单元的液体供给及密封为主要研究对象,针对浸液控制单元的曝光流场流动状态以及浸液控制单元与硅片之间的缝隙流场动态密封技术展开研究,对浸液控制单元及液体供给系统进行设计、制造、优化和集成,为研制...
陈文昱
关键词：浸没式光刻
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一种基于具有固定磁偶极矩标记磁源的线性定位方法
本发明公开了一种基于具有固定磁偶极矩标记磁源的线性定位方法。利用始终具有竖直向上的磁偶极矩的标记磁源构建空间磁场，得到磁通密度分布强度与该测量点同标记磁源之间间距的对应关系；建立xyz直角坐标系，再检测空间磁场任意一测量...
付新申慧敏胡亮陈文昱
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非接触式流体元器件振动检测装置
本发明公开了一种非接触式流体元器件振动检测装置。包括六个结构相同的流场上界面被测流体元器件位姿调节机构、支撑架、三个结构相同的传感测量装置、流场上界面被测流体元器件及其夹持机构、流场下界面结构及其位置调节机构、隔振平台、...
傅新申英男陈文昱
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用于浸没式光刻机的气密封和气液减振回收装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液减振回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液减振回收装置；气密封和气液分离回收装置包括密封和注液回收装置、多孔介质；密封和注液回收装置由浸没单元上端盖...
傅新马颖聪陈文昱徐宁
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用于浸没式光刻机的柔性密封和自适应回收装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻机的柔性密封和自适应回收装置。所述装置是安放在投影透镜组和硅片之间的装置，由注液回收构件和随动盘片组成，用于约束浸没液体流场边界。当液体由于硅片高速运动对随动盘片产生冲击时，随动盘片会顺着运...
傅新邵杰杰陈文昱邹俊阮晓东龚国芳
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