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汤启升

作品数：8 被引量：7H指数：1
供职机构：合肥工业大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 1篇电子电信

主题

  • 8篇纳米
  • 6篇光栅
  • 6篇光栅图形
  • 4篇光刻
  • 4篇光刻胶
  • 2篇等离子体聚合
  • 2篇低压
  • 2篇旋涂
  • 2篇显影
  • 2篇离子
  • 2篇流控
  • 2篇纳米流体
  • 2篇纳米压印
  • 2篇基底
  • 2篇键合
  • 2篇成膜
  • 2篇传送带
  • 1篇有限元
  • 1篇有限元分析
  • 1篇有限元模拟

机构

  • 8篇合肥工业大学

作者

  • 8篇汤启升
  • 7篇金建
  • 7篇李鑫
  • 7篇王旭迪
  • 7篇郑正龙
  • 2篇涂吕星
  • 2篇刘玉东

传媒

  • 1篇真空

年份

  • 6篇2012
  • 2篇2011
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
卷对卷纳米压印实验平台的研制及其关键技术研究
纳米压印具有高分辨率、高产量、低成本的优点，开辟了各种纳米器件生产的广阔前景，展示了广阔的应用领域，已被纳入国际半导体蓝图(ITRS)，成为下一代22nm节点光刻技术的代表之一。然而传统的纳米压印技术是单片整体式实现图形...
汤启升
文献传递
动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统
本实用新型公开了一种动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统，其特征是：在硅片上制作出纳米尺寸光栅图形的模板，纳米尺寸光栅图形在模板的上表面前沿的棱边上形成有光栅线槽；将柔性聚合物基底设置为可连续前行的传送带，其在...
王旭迪汤启升涂吕星刘玉东李鑫郑正龙金建
文献传递
卷对卷纳米压印脱模过程的有限元模拟被引量：7
2012年
本文提出卷对卷纳米压印脱模的两种形式并分析了脱模过程中的阻力。选取垂直于光栅形微结构的截面作为研究对象,忽略脱模过程中旋转角度的影响,将模板上微结构当作竖直平移脱离胶层的方式来处理,利用ANSYS有限元软件模拟了卷对卷脱模过程中不同位置的变形和等效应力分布。结果显示脱模过程中出现两处应力集中,且应力集中处的最大应力在脱模刚发生时出现波动,随后逐渐增大。
汤启升金建李鑫郑正龙王旭迪
关键词：脱模有限元分析
低压键合制作微纳米流控系统的方法
本发明公开了一种低压键合制作微纳米流控系统的方法，其特征是首先以玻璃片为基底，制得具有光栅图形的KMPR母版，并制得到PDMS软印章；再利用PDMS软印章制得后续制作纳米通道的光栅纳米尺寸结构Si基底；另取PET片制得具...
王旭迪金建李鑫汤启升郑正龙
文献传递
一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法
本发明公开了一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法，是首先以玻璃片为基底，制备具有光栅图形的正光刻胶层，接着在正光刻胶层的表面镀上一层SiO<Sub>2</Sub>薄膜，随后在所述SiO<Sub>2</Sub...
王旭迪金建郑正龙李鑫汤启升
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动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的方法及系统
本发明公开了一种动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的方法及系统，其特征是：在硅片上制作出纳米尺寸光栅图形的模板，纳米尺寸光栅图形在模板的上表面前沿的棱边上形成有光栅线槽；将柔性聚合物基底设置为可连续前行的传送带，其...
王旭迪汤启升涂吕星刘玉东李鑫郑正龙金建
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一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法
本发明公开了一种通过正负光刻胶复合显影制备微纳米流体系统的方法，是首先以玻璃片为基底，制备具有光栅图形的正光刻胶层，接着在正光刻胶层的表面镀上一层SiO<Sub>2</Sub>薄膜，随后在所述SiO<Sub>2</Sub...
王旭迪金建郑正龙李鑫汤启升
低压键合制作微纳米流控系统的方法
本发明公开了一种低压键合制作微纳米流控系统的方法，其特征是首先以玻璃片为基底，制得具有光栅图形的KMPR母版，并制得到PDMS软印章；再利用PDMS软印章制得后续制作纳米通道的光栅纳米尺寸结构Si基底；另取PET片制得具...
王旭迪金建李鑫汤启升郑正龙
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