霍庆松
- 作品数：3 被引量：9H指数：2
- 供职机构：山东建筑大学理学院更多>>
- 发文基金：博士科研启动基金山东省自然科学基金住房和城乡建设部科学技术计划项目更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 溅射法制备ZnO薄膜及其表面统计特性
- 氧化锌/(ZnO/)是一种宽带隙/(室温下3.3eV/)Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体,激子结合能为60meV,具有六方纤锌矿结构。晶格常数a=0.3249nm,c=0.5206nm。ZnO薄膜具有良好的透明导电性、压电性、光电性...
- 霍庆松
- 关键词：ZNO薄膜磁控溅射原子力显微镜表面形貌统计特性
- 文献传递
- 衬底及压强对磁控溅射ZnO薄膜表面形貌的影响被引量：6
- 2010年
- 在压强为0.5Pa和0.7Pa的情况下,采用磁控溅射法分别在Si及石英玻璃衬底上生长ZnO薄膜。利用原子力显微镜对ZnO薄膜的表面形貌进行观察,研究了压强及衬底对薄膜表面形貌的影响。研究表明:在Si衬底上生长的ZnO薄膜,压强为0.7Pa时比压强为0.5Pa时表面粗糙度要大;在相同溅射气压(0.7Pa)下,Si衬底上得到的ZnO薄膜质量明显优于石英玻璃衬底上的。
- 霍庆松张宁玉付刚李爽刘小村韩利新张玉华
- 关键词：ZNO薄膜磁控溅射原子力显微镜表面形貌
- Er/Yb/Al掺杂ZnO薄膜的结构与形貌研究被引量：4
- 2011年
- 采用射频磁控溅射技术在室温下Si衬底上制备了ZnO薄膜和Er/Yb/Al掺杂的ZnO薄膜。通过对XRD的结构分析表明:未掺杂ZnO薄膜沿c取向性生长,掺杂ZnO薄膜偏离了正常生长,变为(102)取向性生长的纳米多晶结构;Er/Yb/Al掺杂的ZnO薄膜的晶粒尺寸随着Er元素含量的增多而减小。经AFM对其形貌分析表明:Er3+、Yb3+、Al3+的掺入引起了ZnO薄膜晶格场变化,使薄膜表面粗糙度变大。
- 韩利新张宁玉霍庆松宋红莲
- 关键词：射频磁控溅射ZNO薄膜掺杂形貌
