李豪
- 作品数：8 被引量：11H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：中国科学院院地合作项目国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学机械工程电子电信更多>>
- 有机无机复合激光热刻蚀薄膜和微纳图形制备的方法
- 一种有机无机复合激光热刻蚀薄膜和微纳图形制备的方法，该有机无机复合激光热刻蚀薄膜包括沉积在基片上的ZnS-SiO<Sub>2</Sub>薄膜和旋涂在ZnS-SiO<Sub>2</Sub>薄膜上的腙类金属螯合物有机薄膜。所...
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- 文献传递
- 膜厚对Sb_2Te_3薄膜光学性质的影响被引量：4
- 2011年
- 超分辨近场结构光存储技术(Super-RENS)是一种利用功能薄膜结构实现突破光学衍射极限的信息点记录和读取的新技术,作为超分辨光盘结构的掩膜材料是决定其性能的关键。利用透射电子显微镜研究了可作为超分辨光盘掩膜层Sb2Te3薄膜的晶态结构、表面形貌;利用光谱仪和椭偏仪分析了其光学性质随膜厚的变化。结果表明,沉积态Sb2Te3薄膜呈弱晶状态,在一定厚度范围内,其光学性质随膜厚的不同有较大变化。当膜较薄时,其消光系数和折射率随膜厚的增加而减小;当膜厚达到一定值时,其光学常数随膜厚的增加逐渐趋于稳定,即存在膜厚影响临界值。消光系数和折射率的膜厚影响临界值分别在80nm和50nm左右。薄膜的光学性质与膜厚的关系可以用薄膜结构的连续性来解释。
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- 关键词：光学性质膜厚
- AgInSbTe相变薄膜的热刻蚀腐蚀特性
- 2012年
- 研究了AgInSbTe相变薄膜作为一种新的热刻蚀材料的腐蚀特性。采用射频磁控溅射的方法在室温下制备了非晶态AgInSbTe薄膜,经真空加热退火晶化.以氢氧化钠溶液作为腐蚀剂,研究了退火温度、腐蚀剂浓度、腐蚀时间对晶态、非晶态AgInSbTe薄膜腐蚀特性的影响.结果表明:以非晶态形式存在的沉积态AgInSbTe薄膜在0.001 mol/L氢氧化钠溶液中腐蚀速度小于0.04 nm/min,退火晶化后,薄膜的腐蚀速度大幅度提高,晶态和非晶态薄膜的腐蚀选择比随退火温度的升高而增大.当腐蚀时间为20 min时,经300℃真空退火的晶态AgInSbTe薄膜比相应非晶态的腐蚀速度高45倍以上.腐蚀后薄膜表面质量良好(粗糙度<1 nm,10μm×10μm区域).并对AgInSbTe相变薄膜的腐蚀机理进行了讨论.
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- 无机激光热刻蚀材料的研究进展被引量：5
- 2011年
- 激光热刻蚀技术是近年发展起来的利用激光热刻蚀薄膜的热变化阈值特性突破光学衍射极限进行纳米图形制备的新技术,在亚波长纳米结构器件和高密度光盘母盘制造等领域具有广阔的应用前景。阐述了激光热刻蚀技术的基本原理和特点,以及对激光热刻蚀材料性质的要求,综述了相变型激光热刻蚀薄膜材料(包括硫系相变薄膜材料、金属亚氧化物薄膜材料和陶瓷复合薄膜材料)、热分解型激光热刻蚀薄膜材料和化学反应型激光热刻蚀薄膜材料的最新研究进展。分析并总结了无机激光热刻蚀材料的激光热刻蚀机制,在此基础上对无机激光热刻蚀材料的发展趋势和前景进行了探讨。
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- 有机无机复合激光热刻蚀薄膜和微纳图形制备的方法
- 一种有机无机复合激光热刻蚀薄膜和微纳图形制备的方法，该有机无机复合激光热刻蚀薄膜包括沉积在基片上的ZnS-SiO<Sub>2</Sub>薄膜和旋涂在ZnS-SiO<Sub>2</Sub>薄膜上的腙类金属螯合物有机薄膜。所...
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- 不同基底上SiO_2薄膜红外波段的水吸收特性被引量：2
- 2014年
- 研究了SiO2薄膜的微结构与水吸收特性之间的内在联系,分别在Si、Al2O3和JGS3基底应用电子束蒸发沉积SiO2薄膜。实验用原位傅里叶红外漫反射光谱(in-situ DRIFTS)检测薄膜水吸收特性,并结合原子力显微镜(AFM)进行微结构分析。实验发现:常温吸附状态时,薄膜表面的孔隙数目越多,SiO2薄膜水吸收量越大;薄膜表面粗糙度影响薄膜水吸收特性;升温过程薄膜出现退吸附现象以及蓝移效应。
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- 关键词：SIO2薄膜
- 提高激光热刻蚀图形分辨率的薄膜结构及其制备方法
- 一种提高激光热刻蚀图形分辨率的薄膜结构及其制备方法，该薄膜结构包括沉积在玻璃基片上的热传导薄膜层和激光热刻蚀薄膜层。该薄膜结构采用磁控溅射法制备，本发明的薄膜结构具有膜层结构简单，制备工艺参数可控性好，重复性高，基片要求...
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- 文献传递
- AgInSbTe相变薄膜的激光热刻蚀特性
- AgInSbTe薄膜作为一种典型的快速相变材料被广泛应用于信息数据存储。本文首次研究报道了AgInSbTe薄膜的湿法腐蚀特性。结果表明在盐酸、硫酸、磷酸、硝酸、氢氧化钠、硫化钠、硫化铵、正丁胺、环己胺等几种腐蚀液中晶态A...
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- 文献传递
