您的位置: 专家智库 > >

赵靖

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:福州大学物理与信息工程学院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划福建省科技厅资助项目更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇导电
  • 1篇电学性能
  • 1篇氧离子
  • 1篇离子
  • 1篇晶粒
  • 1篇化学计量
  • 1篇化学计量比
  • 1篇附着性
  • 1篇TA
  • 1篇TA2O5
  • 1篇高性能

机构

  • 2篇福州大学

作者

  • 2篇郭太良
  • 2篇赵靖
  • 1篇张树人
  • 1篇张永爱
  • 1篇袁军林
  • 1篇陈国良

传媒

  • 1篇真空
  • 1篇真空电子技术

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
高性能导电薄膜的制备
2007年
采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了Cr-Cu-Al-Cr薄膜,用焊接法测试薄膜附着性能,用X射线衍射仪、原子力显微镜和台阶仪对薄膜进行表征,研究溅射过程中以及在高温大气环境下薄膜的防氧化方法,分析薄膜晶粒大小与电性能关系,制备出性能较好的导电膜。
张树人陈国良赵靖郭太良
关键词:附着性晶粒电学性能
氧离子束流密度对Ta_2O_5薄膜的影响被引量:2
2009年
利用氧离子辅助电子束蒸发沉积Ta2O5薄膜,在固定氧离子能量的条件下研究了氧离子束流密度对Ta2O5薄膜的微观结构、化学计量比和漏电流密度的影响。利用原子力显微镜和X射线衍射仪对Ta2O5薄膜微观结构进行表征研究,发现随着离子束流密度增大,沉积的Ta2O5薄膜致密性提高,粗糙度下降,但薄膜一直保持非晶态;同时能谱仪测试的结果表明,薄膜中O/Ta比例逐渐提高,直至呈现富氧状态。测量了不同薄膜样品的漏电流密度和击穿场强,发现随着离子束流密度增大,薄膜漏电流密度显著降低,击穿场强提高。总之,提高氧离子束流密度能够明显改善Ta2O5薄膜的微观结构和电学性能。
赵靖张永爱袁军林郭太良
关键词:TA2O5化学计量比
共1页<1>
聚类工具0