陈国良
- 作品数：4 被引量：22H指数：2
- 供职机构：福州大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划福建省科技重大专项福建省自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学电子电信更多>>
- 高性能导电薄膜的制备
- 2007年
- 采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了Cr-Cu-Al-Cr薄膜,用焊接法测试薄膜附着性能,用X射线衍射仪、原子力显微镜和台阶仪对薄膜进行表征,研究溅射过程中以及在高温大气环境下薄膜的防氧化方法,分析薄膜晶粒大小与电性能关系,制备出性能较好的导电膜。
- 张树人陈国良赵靖郭太良
- 关键词：附着性晶粒电学性能
- 高性能导电薄膜的制备被引量：3
- 2007年
- 采用磁控溅射法在玻璃基底上制备了Cr-Cu-Al-Cr薄膜,用焊接法测试薄膜附着性能,用x射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和台阶仪对薄膜进行表征,研究溅射过程中以及在高温大气环境下薄膜的防氧化方法,分析薄膜晶粒大小与电性能关系,制备出性能较好的导电膜。
- 张树人陈国良郭太良
- 关键词：附着性晶粒电学性能
- 应用于MIM-FEA的介质膜层的制备
- 陈国良
- 关键词：场发射阵列离子辅助沉积击穿场强
- 直流磁控溅射制备铝薄膜的工艺研究被引量：19
- 2007年
- 采用直流磁控溅射方法,以高纯Al为靶材,高纯Ar为溅射气体,在玻璃衬底上成功地制备了铝薄膜,并对铝膜的沉积速率、结构和表面形貌进行了研究。结果表明:Al膜的沉积速率随着溅射功率的增大先几乎呈线性增大而后缓慢增大;随着溅射气压的增加,沉积速率先增大,在一定气压时达到峰值后继续随气压的增大而减小。X射线衍射图谱表明Al膜结构为多晶态;用扫描电子显微镜对薄膜进行表面形貌的观察,溅射功率为2600 W,溅射气压为0.4 Pa时制备的Al膜较均匀致密。
- 陈国良郭太良
- 关键词：磁控溅射沉积速率表面形貌
