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文献类型

  • 12篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇文化科学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇气相沉积
  • 4篇进气
  • 4篇孔径
  • 4篇孔径大小
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 3篇导流
  • 3篇淀积
  • 3篇气相淀积
  • 3篇墙结构
  • 3篇外管
  • 3篇进气管
  • 3篇均匀性
  • 3篇化学气相淀积
  • 3篇寄生
  • 3篇壁面
  • 3篇出气
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化物
  • 2篇原位

机构

  • 14篇中国科学院

作者

  • 14篇王国斌
  • 12篇张永红
  • 10篇朱建军
  • 9篇邱凯
  • 4篇王怀兵
  • 3篇杨辉
  • 3篇张宝顺
  • 2篇徐科
  • 2篇张育民
  • 2篇徐俞

传媒

  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2023
  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 5篇2011
  • 4篇2010
14 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
氮化物同质外延的原位检测系统及方法
本发明公开了一种氮化物同质外延的原位检测系统及方法。所述的方法包括:在第一半导体层上同质外延生长第二半导体层时,同时以第一、第二入射光持续照射第二半导体层的表面,并使第一入射光在所述第二半导体层的表面被散射,以产生第一散...
王国斌张育民徐俞徐科
一种垂直喷淋式MOCVD反应器
本发明揭示了一种垂直喷淋式MOCVD反应器,包括反应室、设于反应室顶部的喷淋头及其冷却水进、出口、设于反应室底部的衬底托、加热器及出气口,用于输入反应气体的进气口设于喷淋头之内,其特点是喷淋头腔体相隔形成三个以上独立区域...
王国斌张永红王怀兵邱凯朱建军张宝顺杨辉
文献传递
用于均匀出气的气体分配器
本发明涉及一种用于均匀出气的气体分配器,其一般设置在化学气相淀积设备上的进气段,用来为反应室提供均匀一致的进气。该气体分配器包括相互连通的至少一路进气管和二个以上密闭气体分配腔,所述进气管和气体分配腔沿气流运行方向依次固...
王国斌邱凯朱建军张永红
MOCVD生长GaN薄膜的仿真
根据现行氮化镓金属有机物化学气相沉积的生长动力学理论,结合商用垂直喷淋式反应器,运用计算流体力学方法,耦合化学反应动力学和输运过程,对GaN MOCVD生长过程进行全面的仿真。计算得到了相关场、反应产物以及生长速率、寄生...
王国斌张永红邱凯王怀兵张宝顺杨辉
关键词:GAN生长MOCVD生长速率计算机仿真
用于均匀出气的气体分配器
本发明涉及一种用于均匀出气的气体分配器,其一般设置在化学气相淀积设备上的进气段,用来为反应室提供均匀一致的进气。该气体分配器包括相互连通的至少一路进气管和二个以上密闭气体分配腔,所述进气管和气体分配腔沿气流运行方向依次固...
王国斌邱凯朱建军张永红
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用于化学气相沉积设备中的气体墙结构
本发明涉及一种用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,包括设置于外管内腔中的内管,内、外管之间留有均匀间隙,该间隙与设置在外管上的进气口连通,内管上沿轴向分布多个连通内管内腔和上述均匀间隙的气隙结构,其中每一气隙结构包括沿周...
王国斌朱建军邱凯张永红
用于化学气相沉积设备中的气体墙结构
本实用新型涉及一种用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,包括设置于外管内腔中的内管,内、外管之间留有均匀间隙,该间隙与设置在外管上的进气口连通,内管上沿轴向分布多个连通内管内腔和上述均匀间隙的气隙结构,其中每一气隙结构包括...
王国斌朱建军邱凯张永红
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用于均匀出气的气体分配器
本实用新型涉及一种用于均匀出气的气体分配器,其一般设置在化学气相淀积设备上的进气段,用来为反应室提供均匀一致的进气。该气体分配器包括相互连通的至少一路进气管和二个以上密闭气体分配腔,所述进气管和气体分配腔沿气流运行方向依...
王国斌邱凯朱建军张永红
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用于化学气相沉积设备中的气体墙结构
本发明涉及一种用于化学气相沉积设备中的气体墙结构,包括设置于外管内腔中的内管,内、外管之间留有均匀间隙,该间隙与设置在外管上的进气口连通,内管上沿轴向分布多个连通内管内腔和上述均匀间隙的气隙结构,其中每一气隙结构包括沿周...
王国斌朱建军邱凯张永红
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化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构
本发明涉及一种化学气相沉积外延设备用的喷淋头结构,它包括层叠设置的上层进气层、至少一中间进气层和下层冷却层;上层进气层中设有上层进气槽,该上层进气槽与至少一上层进口管和至少一上层出口管连通,上层出口管上端与上层进气槽连通...
朱建军王国斌张永红
文献传递
共2页<12>
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