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方靓

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇原子层沉积
  • 1篇前驱体

机构

  • 1篇电子科技大学

作者

  • 1篇杨成韬
  • 1篇何伟
  • 1篇杨健苍
  • 1篇方靓

传媒

  • 1篇中国材料科技...

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
原子层沉积技术的研究进展被引量：2
2012年
介绍了原子层沉积技术的基本原理，与其他的薄膜制备方法进行了优缺点比较；同时论述了它在前驱体的选择以及实验装置方面的研究进展；指出前驱体的制备和选择、低沉积速率的改进是当前原子层沉积技术研究的重点；最后展望了原子层沉积技术的发展前景。
杨健苍方靓何伟杨成韬
关键词：原子层沉积前驱体
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共1页<1>
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