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周冬

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文基金:中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇压电
  • 1篇压电材料
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶
  • 1篇溶胶-凝胶法...
  • 1篇石基
  • 1篇凝胶法制备
  • 1篇晶化
  • 1篇晶化温度
  • 1篇蓝宝
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射气压
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇ALN薄膜
  • 1篇SC
  • 1篇SOL-GE...

机构

  • 2篇电子科技大学
  • 1篇川庆钻探工程...

作者

  • 2篇杨成韬
  • 2篇张瑶
  • 2篇朱伟欣
  • 2篇周冬
  • 1篇唐佳琳

传媒

  • 2篇压电与声光

年份

  • 2篇2015
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
溅射气压对蓝宝石基ScAlN薄膜的影响被引量:1
2015年
采用直流磁控溅射在(0001)蓝宝石基片上制备Sc掺杂AlN(ScAlN)薄膜,所用靶材是ScAl合金靶(Sc0.06Al0.94)。通过X线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)测量其结晶取向和表面形貌,通过压电响应显微镜(PFM)测量其压电性能。结果表明,溅射气压是影响薄膜结晶质量和压电性能的重要因素。随着气压从0.3Pa增加到0.7Pa,薄膜的结晶质量和表面形貌会先变好后变差,薄膜的压电常数也有相似的变化规律。最后,当溅射气压为0.5Pa时获得了高度c轴取向的ScAlN薄膜,薄膜的摇摆曲线半高宽(FWHM)为2.6°,表面粗糙度(RMS)为2.650nm,压电常数为8.1pC/N。
张瑶朱伟欣周冬杨翼晞唐佳琳杨成韬
关键词:ALN薄膜压电材料
溶胶-凝胶法制备钡钕钛薄膜及其介电性能研究
2015年
采用溶胶-凝胶法在Si(111)和Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备Ba4Nd9.33Ti18O54(BNT)介质薄膜,采用X线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了不同退火温度对薄膜结构和表面形貌的影响。结果表明当薄膜在950℃下退火2h后具有较好结晶质量的钨青铜结构,所得到的薄膜表面较为疏松;通过掺入质量分数为2%B2O3-2SiO2,可进一步将BNT薄膜的晶化温度降至900℃,且结构致密。介电性能测试表明,1 MHz频率下BNST薄膜的介电常数为45,介电损耗为1.1%,30V偏压下漏电流密度为4.13×10-6 A/cm2。
朱伟欣许绍俊张瑶杨成韬杨翼晞周冬
关键词:晶化温度
共1页<1>
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