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雷辉

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合作作者

领域

  • 5个电子电信
  • 2个理学
  • 1个自动化与计算...

主题

  • 5个电流
  • 5个电流密度
  • 5个电阻
  • 5个淀积
  • 5个调结构
  • 5个熔断
  • 5个熔丝
  • 5个截面积
  • 4个氧化层
  • 4个栅极
  • 4个离子注入
  • 4个介质层
  • 3个电极
  • 3个电路
  • 2个导体
  • 2个地电
  • 2个电容
  • 2个叠层
  • 2个定理
  • 2个短路

机构

  • 7个杭州士兰集成...

资助

  • 1个国家科技重大...

传媒

  • 2个2014`全...
  • 1个半导体技术
  • 1个中国集成电路

地区

  • 7个浙江省
共 7 条 记 录，以下是 1-7
杨彦涛
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：沟槽 功率器件 功率半导体器件 半导体 接触孔
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韩健
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：IGBT器件 发射极 槽栅 发射区 反向二极管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
江宇雷
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：形貌 半导体器件 刻蚀 测试仪 氧化层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈文伟
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：功率器件 接触孔 淀积 套刻 槽栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘慧勇
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：发射区 外延层 功率半导体器件 IGBT器件 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟东
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：磁场强度 BIPOLAR 分析器 离子注入工艺 离子源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王旭
供职机构：杭州士兰集成电路有限公司
研究主题：磁场强度 BIPOLAR 分析器 离子注入工艺 离子源
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