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杨勇
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2
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河北半导体研究所
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合作作者
刘英坤
河北半导体研究所
秦龙
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n型4H-SiC上Ni/Pt和Ti/Pt欧姆接触(英文)
被引量:2
2014年
研究了Ni/Pt和Ti/Pt金属在n型4H-SiC上的欧姆接触。在1 020℃退火后,Ni/Pt与n型4H-SiC欧姆接触的比接触电阻为2.2×10-6Ω·cm2。Ti/Pt与n型4H-SiC欧姆接触的比接触电阻为5.4×10-6Ω·cm2,退火温度为1 050℃。虽然Ni的功函数比Ti的功函数高,但是Ni比Ti更容易与n型4H-SiC形成欧姆接触。使用能谱分析仪(EDX)分析了Ni/Pt和Ti/Pt金属与4HSiC接触面的元素,观察到C原子相对于Pt原子的原子数分数随退火温度的变化而不同。实验验证了在n型4H-SiC中退火导致的碳空位起施主作用是有利于欧姆接触形成的主要原因。
秦龙
刘英坤
杨勇
邓建国
关键词:
欧姆接触
NI
PT
比接触电阻
半导体切断开关器件
简要论述了一种半导体切断开关器件SOS(Silicon Opening Switch).概述了该器件的工作原理、应用领域和目前研究的结果.该器件可以通过简单的串、并联构成组件,满足脉冲功率技术领域电感储能系统开关工作的需...
赵彤
杨勇
刘忠山
崔占东
关键词:
半导体
脉冲功率
泵浦方式
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